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加利福尼亞大學(xué)洛杉磯分校Timothy S. Fisher等--太陽熱化學(xué)氣相沉積制備高質(zhì)量AB雙層石墨烯薄膜
        通過等離子體或熱化學(xué)氣相沉積大規(guī)模生產(chǎn)石墨烯消耗大量能源,對(duì)環(huán)境有潛在的不利影響。這項(xiàng)工作報(bào)告了使用近似太陽光譜的高通量太陽模擬器和冷壁化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器來演示石墨烯生長(zhǎng)的可再生能源過程。通過一步工藝和5分鐘的短時(shí)間,在商業(yè)多晶銅上合成了覆蓋率超過90%的高質(zhì)量(ID/IG=0.13)AB堆疊雙層石墨烯。石墨烯在半徑達(dá)20毫米的大面積上表現(xiàn)出高達(dá)20μm的大晶粒尺寸和空間均勻性。石墨烯薄膜的透射率和薄層電阻分別在92.8–95.3%和2–4 kΩ/sq的范圍內(nèi)。因此,直接太陽能捕獲為石墨烯合成提供了一種引人注目的選擇,可以潛在地降低制造成本和環(huán)境污染。
 
圖1.石墨烯合成的太陽能熱CVD裝置綜述。
 
圖2:(a) 在5和10托下合成的石墨烯的拉曼光譜與在1060°C、CH4:H2為0.25和5分鐘下保持的其他條件之間的比較。石墨烯在銅上生長(zhǎng)的BSE圖像,源燈泡在焦點(diǎn)上,表明特征尺寸至少為20μm,(b)高倍率和(C)低倍率。(d) 單個(gè)石墨烯顆粒的電子衍射,其強(qiáng)度分布在藍(lán)色虛線框內(nèi),顯示等效[2100]平面的外峰和等效[11100]平面中的內(nèi)峰。(e) 暗場(chǎng)圖像,通過電子衍射識(shí)別晶粒尺寸,最大可達(dá)20μm(孔徑尺寸)。(f) 轉(zhuǎn)移到熔融二氧化硅上的石墨烯膜的SEM圖像顯示了沒有明顯對(duì)比度的膜均勻性。在(g)熔融二氧化硅和(h)Si/300nm SiO2上用移位的燈泡設(shè)置生長(zhǎng)的石墨烯的光學(xué)顯微照片。(i) 石墨烯在熔融二氧化硅晶片上的照片。
 
圖3.在300nm SiO2/Si上,源燈泡偏離焦點(diǎn)(以使光強(qiáng)度分布變平)的情況下生長(zhǎng)的石墨烯的拉曼圖譜顯示,在200(左)和20μm(右)的特征長(zhǎng)度上,(a)ID/IG、(b)I2D/IG和(c)fwhm的均勻性。(d) 獲得了具有AB堆疊、SLG和少量層特征的石墨烯的拉曼光譜。(e) fwhm的統(tǒng)計(jì)分布,其中插圖顯示了AB堆疊雙層石墨烯的2D洛倫茲擬合。(f) I2D/IG的統(tǒng)計(jì)分布,其中插圖估計(jì)了與SLG或少層石墨烯的其他拉曼光譜相比AB雙層的堆疊比。
 
圖4.(a) 通過共定位拉曼測(cè)量(ID/IG、I2D/IG和fwhm)將合成石墨烯轉(zhuǎn)移到熔融二氧化硅的透射率作為徑向位置的函數(shù),其中誤差條顯示了不同角度位置(0、90、180和270°)下徑向測(cè)量的不確定度。(b) 合成石墨烯的薄層電阻通過共定位拉曼測(cè)量(ID/IG、I2D/IG和fwhm)轉(zhuǎn)移到熱氧化物上,作為徑向位置的函數(shù),其中誤差條顯示了在八個(gè)不同角度位置(0、45、90、135、180、225、270和315°)的徑向測(cè)量的不確定性。
 
       相關(guān)研究成果由加利福尼亞大學(xué)洛杉磯分校Timothy S. Fisher等人2022年發(fā)表在ACS Sustainable Chemistry & Engineering (https://doi.org/10.1021/acssuschemeng.2c07229)上。原文:High-Quality AB Bilayer Graphene Films by Direct Solar-Thermal Chemical Vapor Deposition。

轉(zhuǎn)自《石墨烯研究》公眾號(hào)
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